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本申请提供的一种真空环境低温大面积镀铜膜系统及镀铜膜方法，该系统包括依次相邻的进料室、镀膜室和出料室；镀膜室的正下方设有电子枪蒸发系统和送铜丝机构；镀膜室和电子枪蒸发系统之间设有蒸发挡板；进料室、镀膜室以及出料室之间设置有传动系统；这样传动...
该专利属于江苏先导微电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏先导微电子科技有限公司授权不得商用。

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