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本发明具有：处理容器，其具有处理基板的第1区域、未配置基板的第2区域；第1供给部，其向第1区域供给处理气体；第2供给部，其向处理容器的第2区域供给吸附阻碍气体；第1供给系统，其向第1供给部供给处理气体；第2供给系统，其向第2供给部供给吸附阻...
该专利属于株式会社国际电气所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社国际电气授权不得商用。

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