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本发明公开了一种化学机械抛光液，其包含磨料颗粒，其还含有下述有机盐中的一种或多种：脂肪胺的盐酸盐、脂肪胺的硫酸盐、酰胺的盐酸盐、酰胺的硫酸盐、氨基酸的盐酸盐和氨基酸的硫酸盐。本发明的化学机械抛光液通过化学方法在酸性或碱性条件下均能够提高二氧...
该专利属于安集微电子（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子（上海）有限公司授权不得商用。

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