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本发明公开了一种去除光阻层残留物的清洗液，其特征是含有Ｎ，Ｎ－二乙基乙醇胺、其他醇胺溶剂、水、螯合剂。该清洗液对非金属和金属的腐蚀速率较低，能够去除晶圆上的光阻残留物。因此该新型的清洗液在金属清洗和半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前...
该专利属于安集微电子（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子（上海）有限公司授权不得商用。

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