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本发明公开了一种化学机械抛光制程，包括采用含有选自高锰酸及其可溶性盐和锰酸及其可溶性盐中的一种或几种的抛光浆料进行化学机械抛光及其后续的清洗步骤，该清洗步骤中所用的清洗液为双氧水水溶液。本发明还公开了一种双氧水的用途以及一种在化学机械抛光中...
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