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本发明公开了一种光刻胶清洗剂，含有：季铵氢氧化物、水、烷基二醇芳基醚、二甲基亚砜和聚丙烯酸类缓蚀剂；其中所述的烷基二醇芳基醚中烷基二醇的碳原子数目为３～１８。这种光刻胶清洗剂可以除去金属、金属合金或电介质等基材上的光刻胶（尤其是厚膜负性光刻...
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