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一种等离子体CVD装置(1)，其具备一对成膜辊(2A、2B)、一对磁场产生部件(3A、3B)、一对位置调整部件(4A、4B)、以及气体供给部(5)。一对成膜辊(2A、2B)相互分离地对置配置。一对磁场产生部件(3A、3B)配置于一对成膜辊(...
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