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基板处理装置包括：工艺腔室，在内部形成空间；基座，配置于工艺腔室的内部，并支承基板；气体产生部，配置于工艺腔室上；背板，配置于工艺腔室的上方，并形成有上下贯通的供应部以使得从气体产生部供应的工艺气体扩散到工艺腔室的内部；以及扩散块，配置于气...
该专利属于三星显示有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过三星显示有限公司授权不得商用。

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