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流体抽取系统、光刻设备和器件制造方法技术方案
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文档序号:4286027
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本发明公开了一种流体处理系统、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述光刻设备典型地包括流体处理系统。流体处理系统通常包括两相流体抽取系统,其被配置以从给定的位置移除气体和液体的混合物。因为抽取流体包括两相,所以可以改变抽取系统中的压力。这种压...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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