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本发明涉及鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，良好的感度、对比度，且曝光裕度、边缘粗糙度、尺寸均匀性、焦点深度等光刻性能优异，同时即便在微细图案形成中抗图案崩塌仍强且蚀刻耐性...
该专利属于信越化学工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过信越化学工业株式会社授权不得商用。

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