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基板处理装置、基板处理方法、半导体装置的制造方法及记录介质制造方法及图纸
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文档序号:42837598
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本发明的课题为抑制外部气体混入处理室内。基板处理装置具有:上部容器;下部容器,其设置于所述上部容器的下方,在与所述上部容器之间构成处理室;第一密封部,其配置于所述上部容器与所述下部容器的边界区域,并具有第一密封部件和第二密封部件;以及支撑部...
该专利属于株式会社国际电气所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社国际电气授权不得商用。
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