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公开一种硬掩模组合物、包含所述硬掩模组合物的固化产物的硬掩模层以及使用包含所述硬掩模组合物的固化产物的所述硬掩模层来形成图案的方法。所述硬掩模组合物包含：由以下化学式1表示的化合物；以及溶剂，[化学式1]...
该专利属于三星SDI株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星SDI株式会社授权不得商用。

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