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本申请实施例提供了一种晶圆清洗装置，包括晶圆清洗装置主体，其具有坡度的顶面包括至少两个盖板，每个盖板上均具有清洗槽，相邻盖板间设置第一沟槽，所述顶面上垂直于所述第一沟槽的一侧设置第二沟槽，所述第一沟槽与第二沟槽相连，所述第二沟槽较低的一侧设...
该专利属于浙江创芯集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江创芯集成电路有限公司授权不得商用。

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