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本技术公开了一种下电极组件、薄膜沉积反应腔和薄膜沉积设备，通过定位组件将基座、绝缘盘和静电吸盘进行定位，以使得基座、绝缘盘和静电吸盘对中同心，之后再将基座、绝缘盘和静电吸盘三者依次连接固定后即可保证座、绝缘盘和静电吸盘对中同心，如此便于支撑...
该专利属于拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司授权不得商用。

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