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本技术提供了一种CMP机台的管路清洗装置，用于清洗研磨液供应系统，包括：混液机和清洗桶，均用于容纳清洗液；所述混液机的进液口与供液管路相连通，混液机的出液口通过自循环管路与供液管路相连通，所述供液管路中的常用供应节点接入至少一主支路的进液口...
该专利属于芯恩（青岛）集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过芯恩（青岛）集成电路有限公司授权不得商用。

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