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本申请涉及排胶技术领域,尤其涉及一种压力调节装置和排胶炉,以解决泄压装置设置在工艺腔室上,导致净化腔室泄压迟缓,可能会引起净化腔室爆裂等安全隐患的问题。通过第一压力传感器检测净化腔室内的第一压力,中心控制器接收第一压力传感器检测到的第一压力...该专利属于拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司授权不得商用。
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