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本发明公开了一种ICO靶材及其制备方法与应用。涉及溅射靶材技术领域。上述ICO靶材，按摩尔百分比计，包括以下组分：Ce：0.5％～2.5％；Al：0.05％～0.2％；Si：0.05％～0.25％；In：97～99.5％。本发明在原有Ce掺...该专利属于中山智隆新材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中山智隆新材料科技有限公司授权不得商用。
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