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本发明涉及一种多用途硅微纳米结构制备技术，属于新材料制备技术领域。本发明将金属催化硅腐蚀技术与光刻技术相结合，研制出了一种大面积高度有序硅微纳米结构阵列的制备方法。即利用电子束或紫外光等曝光技术将光刻掩模板上的微结构图形精确地复制在涂有光致...
该专利属于北京师范大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京师范大学授权不得商用。

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