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本发明的课题在于，提供一种对于固化后的抗蚀剂也显示高的剥离性，能够抑制Cu及Al等与液体接触的基板构成金属的腐蚀，并抑制剥离过程中Cu等金属的过度的氧化的光刻胶剥离组合物。一种光刻胶剥离组合物，组合物包含(A)氢氧化季铵、(B)二乙二醇单乙...
该专利属于关东化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过关东化学株式会社授权不得商用。

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