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本发明提供了一系列多波段感光的光刻胶主体材料，即式(I)所示的聚合物。其可以直接旋涂成膜并应用于I‑线、193nm光刻、电子束或极紫外光刻中。本发明所述聚合物为非化学放大光刻胶，且可通过对聚合单体进行官能化来改变聚合物的吸收波长，从而得到在...
该专利属于中国科学院理化技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院理化技术研究所授权不得商用。

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