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本发明涉及用于测量薄膜的温度和厚度的装置以及使用该装置的测量方法，其中，在薄膜的相同位置处对连续挤出或涂覆的薄膜的表面温度和厚度进行顺序地测量，并且基于测量数据控制薄膜的温度和厚度，使得可以制造出具有均匀厚度的薄膜。...
该专利属于株式会社LG化学所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社LG化学授权不得商用。

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