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本发明公开了一种改善中高压器件可靠性的方法，将Spacer1工艺、IOR工艺和SAB工艺三张光罩版图优化，在不增加成本的前提下，能提高器件性能，改进在于利用第一隔离光罩保护高压区的栅极开槽,同时定义中压区源漏到沟道宽度，源漏到沟道宽度大于第...
该专利属于上海华力集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力集成电路制造有限公司授权不得商用。

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