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一种精确摩尔配比的高熵薄膜及其制备方法技术
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文档序号:42620096
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本发明公开了一种精确摩尔配比的高熵薄膜及其制备方法;本发明使用电子束蒸发制备金属多层膜,由金属膜层厚度和校准系数的乘积精确控的制各金属元素的摩尔配比,并在大气环境下进行750℃退火,即可形成元素配比准确高质量尖晶石结构高熵热敏薄膜材料;采用...
该专利属于西安邮电大学所有,仅供学习研究参考,未经过西安邮电大学授权不得商用。
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