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本申请涉及工艺处理设备技术领域，尤其涉及到一种进气分流器、进气结构、半导体工艺腔室及半导体设备。该进气分流器包括分流器本体，该分流器本体具有进气端和出气端；分流器本体设置有进气通道，进气通道具有进气口和至少两个出气口。其中，进气口位于分流器...
该专利属于深圳市新凯来工业机器有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市新凯来工业机器有限公司授权不得商用。

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