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可以提出一种晶片处理设备。该设备可以包括：晶片支撑件，其设置有用于支撑和加热晶片的加热器；用于封闭和处理晶片的室；用于使气体进入室的喷淋头；用于从室中去除气体的泵送端口；黑壁，其具有提供给泵送端口附近的室的相当高的发射率，并且配置为部分地围...
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