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磁存储器及其制作方法技术
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文档序号:42581612
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本申请提供一种磁存储器及其制作方法,涉及半导体技术领域,用于解决降低阈值电流时难以保证磁隧道结的性能的技术问题。该磁存储器的制作方法包括:形成第一电极层、磁隧道结和第一介质层,磁隧道结位于第一电极层上,第一介质层覆盖磁隧道结,且至少暴露第一...
该专利属于青岛海存微电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过青岛海存微电子有限公司授权不得商用。
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