温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请公开了一种反应腔室，涉及半导体装备领域。一种反应腔室，应用于半导体工艺设备，所述反应腔室包括：沿第一方向相对设置的第一加热体和第二加热体；所述第一加热体与所述第二加热体之间具有用于容纳晶圆的反应腔体，所述反应腔体沿第二方向的两侧分别设...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。