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一种含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有[A]成分：含有碳‑碳三键的聚硅氧烷、和[C]成分：溶剂。...
该专利属于日产化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日产化学株式会社授权不得商用。

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