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本发明提供了闸阀、真空腔室及半导体加工设备。所述闸阀包括阀壳、第一阀板、第二阀板及阀芯。所述阀壳的第一过流口连接第一管道，而其第二过流口连接第二管道。所述第一阀板的第一表面朝向第一过流口，而其第二表面设有顺第一方向递升的第一斜坡。所述第二阀...
该专利属于拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司授权不得商用。

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