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本公开提供了一种用于真空镀膜的加热设备及真空镀膜装置,加热设备包括:传送机构配置为传送基材;第一隔板至少将传送机构分为沉积区域和沉积前区,沉积区域配置为于基材表面沉积镀膜;基材在传送过程中,先进入沉积前区进行加热再进入沉积区域进行镀膜;第一...该专利属于安迈特科技(北京)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过安迈特科技(北京)有限公司授权不得商用。
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本公开提供了一种用于真空镀膜的加热设备及真空镀膜装置,加热设备包括:传送机构配置为传送基材;第一隔板至少将传送机构分为沉积区域和沉积前区,沉积区域配置为于基材表面沉积镀膜;基材在传送过程中,先进入沉积前区进行加热再进入沉积区域进行镀膜;第一...