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本发明公开了一种芯片保护用高纯氮制取工艺,所述工艺所需装置包括原料液氮罐、主换热器、精馏塔、主冷凝蒸发器、过冷器、氮压机、后冷却器、低纯度液氮罐和高纯度液氮罐。本发明采用单塔单冷凝精馏提纯工艺即可获得纯度为≤3ppmAr的高纯氮产品,满足新...该专利属于杭州特盈能源技术发展有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过杭州特盈能源技术发展有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种芯片保护用高纯氮制取工艺,所述工艺所需装置包括原料液氮罐、主换热器、精馏塔、主冷凝蒸发器、过冷器、氮压机、后冷却器、低纯度液氮罐和高纯度液氮罐。本发明采用单塔单冷凝精馏提纯工艺即可获得纯度为≤3ppmAr的高纯氮产品,满足新...