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一种半导体结构的形成方法，包括：提供基底，基底上形成有图形材料层，图形材料层上形成有第一核心材料层，包括沿第一方向交替排列的第一区和第二区；对部分或全部第一区的第一核心材料层进行离子注入处理，形成第二核心材料层，使第二核心材料层的耐刻蚀度大...
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