下载一种拉制低氧单晶硅的方法的技术资料

文档序号:42486972

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本发明公开了一种拉制低氧单晶硅的方法,具体涉及单晶硅生长技术领域,包括S1、工艺中调整埚转速度,S2、工艺中优化氩气流量,S3、工艺中降低炉压,S4、工艺中炉压参数改为变炉压拉晶,S5、工艺参数中调整晶转参数。本发明能够降低单晶硅中的氧含量...
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