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本发明公开了一种拼板曝光方法,拼板曝光方法如下:步骤一:制作FPC半成品的前处理;步骤二:线路前处理微蚀;步骤三:压干膜;步骤四:曝光;步骤五:采用LDI曝光机,根据产品不同尺寸区域治具,每个区域四个不同距离通孔,可以同时放4张产品,最后用...该专利属于上达电子(黄石)股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上达电子(黄石)股份有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种拼板曝光方法,拼板曝光方法如下:步骤一:制作FPC半成品的前处理;步骤二:线路前处理微蚀;步骤三:压干膜;步骤四:曝光;步骤五:采用LDI曝光机,根据产品不同尺寸区域治具,每个区域四个不同距离通孔,可以同时放4张产品,最后用...