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本公开的实施例提供了用于测量光刻图形的方法、装置、设备、存储介质和程序产品，涉及芯片设计工具领域。所提供的方法包括在光刻图形的多个轮廓段中，确定与对应于光刻图形的设计版图中的测量点关联的至少一个轮廓段，所确定的至少一个轮廓段中的每个轮廓段在...
该专利属于华为技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华为技术有限公司授权不得商用。

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