温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本技术涉及一种气流场及温度场均匀的半导体腔体，属于半导体设备技术领域，在半导体腔体的一侧开设有传片口和进气孔，半导体腔体在与传片口相对的一侧开设有抽气口，在抽气口处设置有匀流栅板；半导体腔体沿着腔体内侧面的上部设置有呈环形的上水道，半导体腔...
该专利属于盛吉盛半导体科技（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过盛吉盛半导体科技（北京）有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。