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本申请涉及一种钝化层及外延片的制作方法、外延片、发光芯片和显示器，其中在钝化层的制作方法中，在外延主体上形成氧化铝层，对氧化铝层进行第一退火处理，使得氧化铝层表面中铝‑氧化学键发生断裂，产生了游离的铝离子和游离的氧离子，为后续硅离子注入做好...
该专利属于重庆康佳光电技术研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过重庆康佳光电技术研究院有限公司授权不得商用。

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