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本发明公开了一种用于腐蚀氮化硅掩膜的浆料的清洗方法，包括如下步骤：（１）在氨水溶液中超声清洗；（２）在纯水中超声清洗至少２次；（３）在稀盐酸溶液中超声清洗；（４）纯水喷淋；（５）循环纯水浸渍。本发明的清洗方法可以彻底清除硅片表面的浆料残留和...该专利属于苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;常熟阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯光伏电力（洛阳）有限公司;阿特斯光伏科技（苏州）有限公司;阿特斯太阳能光电（苏州）有限公司;阿特斯光伏电子（常熟）有限公司;常熟阿特斯太阳能电力有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;常熟阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯光伏电力（洛阳）有限公司;阿特斯光伏科技（苏州）有限公司;阿特斯太阳能光电（苏州）有限公司;阿特斯光伏电子（常熟）有限公司;常熟阿特斯太阳能电力有限公司授权不得商用。