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本技术提供了一种低压化学气相沉积设备及半导体制造系统，所述低压化学气相沉积设备包括：反应设备以及与所述反应设备连接的控制设备；所述反应设备包括反应腔室，设置在所述反应腔室第一侧的进气管路以及设置在所述反应腔室第二侧的出气管路；所述出气管路上...
该专利属于荣芯半导体（淮安）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过荣芯半导体（淮安）有限公司授权不得商用。

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