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本发明公开了一种环保高效的GaAs晶片的抛光组合物，所述抛光组合物由以下重量百分比的原料组成：抛光剂磨料0.8%‑40%；碱性化合物0.01%‑10%；氧化剂1%‑25%；氧化稳定剂0.001%‑0.5%；表面活性剂0.001%‑1%；余量...
该专利属于郑州磨料磨具磨削研究所有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过郑州磨料磨具磨削研究所有限公司授权不得商用。

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