温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供了一种单晶硅籽晶的清洗方法。单晶硅籽晶的清洗方法包括：对所述单晶硅籽晶依次进行酸洗、漂洗和超声清洗；其中，所述酸洗采用的酸为硝酸、氢氟酸和乙酸的混合酸，氢氟酸：乙酸：硝酸的质量比例为1：(2.5‑3.5)：(6‑12)。本发明的清...
该专利属于天合光能股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过天合光能股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。