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一种版图及其布局布线方法、半导体结构的形成方法,其中版图的布局布线方法包括:提供初始版图,初始版图包括第一标准单元和第二标准单元,第一标准单元包括第一金属线和第二金属线,第一金属线和第二金属线的间距尺寸小于设计规则尺寸;在第一标准单元和第二...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。
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一种版图及其布局布线方法、半导体结构的形成方法,其中版图的布局布线方法包括:提供初始版图,初始版图包括第一标准单元和第二标准单元,第一标准单元包括第一金属线和第二金属线,第一金属线和第二金属线的间距尺寸小于设计规则尺寸;在第一标准单元和第二...