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本发明公开了一种制作全息双闪耀光栅的方法，其特征在于，包括下列步骤：（１）在光栅基片上涂布光刻胶；（２）进行第一次干涉光刻，制作符合Ａ闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；（３）对于Ａ光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ａｒ离子束扫描刻蚀，形成三角形的闪耀光栅...
该专利属于苏州大学所有，仅供学习研究参考，未经过苏州大学授权不得商用。

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