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本发明提供了一种减少具有投影阶段和空闲阶段的光刻过程中的循环误差效应的方法，所述方法包括：在第一控制回路中控制第一模块的第一位置，所述第一模块是投影系统的位置受控的反射镜，所述第一控制回路具有第一带宽并且包括具有第一循环误差的第一位置测量系...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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