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一种半导体装置及其制造方法。半导体装置包括第一栅极、第一半导体层、第一栅介电层、第二栅极、第二栅介电层、第二半导体层、第三栅介电层、第一接触孔、第二接触孔、源极、漏极、及第三栅极。第一半导体层位于第一栅极上。第一栅介电层位于第一栅极与第一半...
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