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用于膜沉积和控制的方法、组件和系统技术方案
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下载用于膜沉积和控制的方法、组件和系统的技术资料
文档序号:42376870
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公开了适用于气相过程的方法、系统和组件。示例性组件包括基座板和基座附件。基座附件可以包括斜坡区域和位于斜坡区域上方和外部的电导控制区域。方法、系统和组件可用于在衬底表面上获得期望的材料分布(例如成分和/或厚度)。...
该专利属于ASMIP私人控股有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASMIP私人控股有限公司授权不得商用。
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