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本发明提供了一软体等离子刻蚀工艺及调控方法，包括以下步骤：(S101)放置被测样品至一真空腔；(S102)光纤传导光源至被测样品；(S103)电容耦合放电形成等离子体，轰击被测样品表面；(S104)被测样品表面发生物理化学反应，被测样品被逐...
该专利属于宁波大学所有，仅供学习研究参考，未经过宁波大学授权不得商用。

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