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一种光学临界修正方法及其装置、存储介质，所述光学临界修正方法包括：提供功能图形，所述功能图形具有待保护边；对所述功能图形进行光学临近修正的切分操作，获得所述待保护边上的切分位置；根据设计规则，在补偿位置，设置预备条状图形，所述预备条状图形的...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。

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