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本发明涉及一种应用Ｘ射线荧光光谱法检测碳化硅杂质含量的方法，其步骤如下：１、制备测试样片；２、制备标准样片：①提纯碳化硅的制样；②碳化硅提纯，制备出纯品碳化硅；③人工配制标准样品，最后压制成碳化硅标准样片；３、用标准样片建立ｘ射线荧光光谱法...
该专利属于天津出入境检验检疫局化矿金属材料检测中心所有，仅供学习研究参考，未经过天津出入境检验检疫局化矿金属材料检测中心授权不得商用。

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