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本技术公开了一种载片舟清洗装置的外腔结构和载片舟清洗装置，属于硅片生产技术领域。载片舟清洗装置的外腔结构包括外壳，内设有真空腔，真空腔内用于放置具有反应腔的内壳；第一开口开设于外壳上且与真空腔连通，第一开口用于取放待清洗的载片舟；真空口开设...
该专利属于浙江晶盛光子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江晶盛光子科技有限公司授权不得商用。

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